Распродажа!-37%
Pupa

Post-Mask Cream 75ml

6.95 

92.67 €/L

В наличии

Saadavus kauplustes:
  • Jõhvi Pargi Keskus - Laos
  • Lasnamäe Centrum - Laos
  • Magistrali keskus - Laos
  • Narva Astri - Laos
  • Pärnu Kaubamajakas - Laos
  • Pärnu Port Artur 2 - Laos
  • Rakvere Põhjakeskus - Laos
  • T1 Tallinn - Laos
  • Tartu Lõunakeskus - Laos
  • Viljandi Uku keskus - Laos
  • Võru Kagukeskus - Laos
  • Ülemiste keskus - Laos
Артикул: PU02S2001 Категория: EAN: 8011607353590

Описание

Kas Sinu nahk on näomaski kandmisest stressis? On tekkinud ebapuhtused ja nahaärritused, nahk kiheleb? Selle nahka taastava, Post-Mask näokreemi valmistamisel on kasutatud väärtuslike looduslike õlisid ja võideid, naha kaitsebarjääri tugevdavaid prebiootikume ja aasia vesinaba ( Centella Asiatica) ekstrakti, mis on tuntud oma nahka taastavate ja rahustavate omaduste poolest. Mikrobioota on meie nahal leiduv mikroorganismide kogum, mis tagab nahale loomuliku kaitse. Maski pikaaegne kandmine muudab nahal selle mikrobioota tasakaalu, nahale võivad tekkida laigud, punetus ja kuivus. See näokreem sisaldab prebiootikume, mis tugevdavad naha kaitsebarjääri, taastavad selles loomuliku tasakaalu samal ajal nahka taastades ja rahustades aasia vesinaba taime- ekstrakti toel. Kliiniliselt ja dermatoloogiliselt testitud näokreem on toodetud Itaalias.

Детали

Brand

Пол

Kanna see kreem puhtale nahale pärast näomaski kandmist.

AQUA (WATER), BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) BUTTER, CETEARYL WHEAT STRAW GLYCOSIDES, CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE, GLYCERIN, PRUNUS AMYGDALUS DULCIS (SWEET ALMOND) OIL, CERA ALBA (BEESWAX), BEHENYL ALCOHOL, GLYCERYL STEARATE, GOSSYPIUM HERBACEUM (COTTON) SEED OIL, CETEARYL ALCOHOL, INULIN, PHENOXYETHANOL, PARFUM (FRAGRANCE), ALPHA-GLUCAN OLIGOSACCHARIDE, HYDROXYPROPYL GUAR, CENTELLA ASIATICA LEAF EXTRACT, DISODIUM EDTA, ETHYLHEXYLGLYCERIN, LECITHIN, SODIUM HYDROXIDE, TOCOPHEROL, ASCORBYL PALMITATE, CITRIC ACID

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “Post-Mask Cream 75ml”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *